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半導體制程(支撐)材料

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三氟化氯

更新時間:2020-07-04 點擊數:3149

三氟化氯(ClF3),相對分子量為92.45,是一種腐蝕性、無色有甜味的氣體,降溫變為綠色液體,即使在低濃度時也有高度刺激性,具有強氧化性。在高溫時,三氟化氯能夠點燃許多有機化合物和許多金屬,遇水產生猛烈反應,水解產生有毒物質。在半導體工業中,三氟化氯用于清洗化學氣相沉積腔室,它可以用于從室壁去除半導體材料,而不必拆卸腔室,不需要使用等離子體的激活,腔室的熱量足以使其分解并與半導體材料反應。

產品指標


產品用途:

在半導體工業中,三氟化氯可用于清洗化學氣相沉積腔室。此外,三氟化氯還可用作氟化劑、燃燒劑、推進劑中的氧化劑、高溫金屬的切割油等。        

包裝、貯存:

三氟化氯儲存于標準無縫鋼瓶中,包裝規格有500g,1kg,2kg。具體包裝規格可根據用戶要求定制更改。三氟化氯儲存于陰涼




備案號:魯ICP備17016486號-5

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